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  • 刊名: 国际学术动态

    主办单位:  华中科技大学

    出版周期:  双月

    出版地:湖北省武汉市

    语种:  中文

    开本:  大16开

    创刊时间:  1983

    面向21世纪的Bi CMOS工艺

    【期数】:1998年02期

    【作者】:汤庭鳌

    【摘要】: 1 会议背景自从1947年第一个双极型晶体管问世以来,已整50个年头了,在这颇具历史意义的时刻,国际1997双极和Bi CMOS电路及工艺会议(BCTM)9月底到10月初在美国明尼苏达州明尼埃帕勒斯市召开。大会邀请了一些对晶体管和集成电路的发明、发展作出过重要贡献的元老们与会。现年75岁的James M.Early,在贝尔实验室工作期间对锗晶体管、硅晶体管和太阳能电池的发展作出了杰出的贡献。在加盟仙童公司后,他又在发展集成电路新工艺——等平面工艺及埋沟CCD方面起了重要作用。现年74岁的Jack S.Kilby,1947~1958年受雇于环球联盟公司中央实验部负责开发厚膜混合电路、相容晶体管,1958年就职于德州仪器公司