用正电子谱学研究高分子材料

【期数】：1997年04期

【作者】：王少阶

【摘要】： 第5届国际正电子与正电子素化学会议于1996年6月9～14日在匈牙利举行。有20余国约70名代表参加会议,其中有芬兰的Hautoj(a|¨)rvi,美国的Schrader,丹麦的Eldrup等国际知名的正电子学家。会议收到论文104篇,内容涉及正电子与正电子素化学基础,液体和气体,正电子素的化学反应,高分子、生物系统和表面结构,正电子束的化学应用,实验仪器和方法等方面。本届会议上,用正电子谱学研究高分子材料的论文多达34篇,占论文总数的1/3。可见,在正电子与