刊名: 国际学术动态
主办单位: 华中科技大学
出版周期: 双月
出版地:湖北省武汉市
语种: 中文
开本: 大16开
创刊时间: 1983
【期数】:1997年03期
【作者】:陈德桂
【摘要】: 第42届IEEE霍姆(Holm)电接触与第18届国际电接触联合学术会议于1996年9月16~22日在美国芝加哥市召开,来自20多个国家和地区的211名代表参加了会议。会议论文集收录了论文60篇,内容包括:开关电弧与电弧对触头的侵蚀;触头的微振磨损(Fretting)与腐蚀;电接触基础与数学模型;继电器与铝联结器;试验方法。开关电弧与电弧对触头的侵蚀方面的论文最多,占17篇。几位近年来在低压开关电器上最为活跃的专家,如德国Brannschweig大学的M.Lindmayer教授,英国Southampton大学的