刊名: 国际学术动态
主办单位: 华中科技大学
出版周期: 双月
出版地:湖北省武汉市
语种: 中文
开本: 大16开
创刊时间: 1983
【期数】:2011年06期
【作者】:宋远红;姜巍;孙继忠;王友年
【摘要】:第3届微电子与等离子体技术国际会议(The 3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology,ICMAP-2011)于2011年7月4~7日在大连富丽华大酒店召开。本次会议由韩国真空学会、中国真空学会、中国力学学会、韩国半导体与显示技术协会、日本应用物理学会等离子体电子学分会主办,大连理工大学承办。本次大会主席是大连理工大学王友年教授和韩国高等科学技术研究院