值得重视的表面结构研究

【期数】：1997年01期

【作者】：蒋平

【摘要】： 第5届国际表面结构会议（ICSOS—5）于1996年7月8日至12日在法国南部城市阿克斯举行,来自25个国家与地区的353名代表与会。与会代表的论文以大会报告和张贴报告两种形式举行,并由Applied Surface Science以专辑出版发行。会议有9大主题,即新一代同步辐射对表面研究的应用,理论展望,金属表面,半导体表面,分子吸附,磁性材料,金属—半导体界面,傅氏烯与氧化物,以及新发展与新技术。有23位科学家作了特邀报告,其中复旦大学金晓峰教授的特邀报告题为3d金属与半导体界面研究。近年来同步辐射应用于表面研究越来越引起重视。新一代同步辐射光源的投入使用,为表面研究开辟出新的天地。瑞士学者G.Margaritondo报告了超亮度同步辐射源ELETTRA对外开放以来,其前所未有的软X射线给表面科学带来的新希望。如提供了时间分辨性,超级ESCA束线将能以百分之几秒的时间采集光电子谱,对表面化学反应作实时监控。又如能提供横向空间分辨率,在亚微米标度上作表面谱研究,有利于对生物样品作表面研究。加州伯克利劳伦斯研究所C.S.Fadley报告了光电子全息与局域源X射线全息术的最新进展。对定域源X射线全息术,只是到了1996年才发表了首例实验报告。台湾新竹同步辐射中心的皮东文（译音）在会上报道了他们对KxC60的表面电子结构所作的光电子谱研究结果。