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  • 刊名: 国际学术动态

    主办单位:  华中科技大学

    出版周期:  双月

    出版地:湖北省武汉市

    语种:  中文

    开本:  大16开

    创刊时间:  1983

    2008纳米压印光刻国际学术会议

    【期数】:2009年06期

    【作者】:兰红波

    【摘要】:2008年9月26~30日,我参加Obducat AB组织的纳米压印光刻学术研讨会。纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography,NIL)是一种全新的纳米图形复制方法,目前压印的最小特征尺寸可以达到5nm,NIL较之现行的投影光刻和其他下一代光刻技术,具有高分辨