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  • 刊名: 国际学术动态

    主办单位:  华中科技大学

    出版周期:  双月

    出版地:湖北省武汉市

    语种:  中文

    开本:  大16开

    创刊时间:  1983

    第6届结技术国际研讨会

    【期数】:2007年05期

    【作者】:

    【摘要】:从2000年开始,由日本应用物理学会硅技术分会发起每年召开一届的结技术国际研讨会,到2006年已经是第6届。这是一个由国际学术组织连续主办的系列会议,是集成电路工艺领域中一个档次很高的专题研讨会。除了一大批活跃在结技术研发第