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  • 刊名: 国际学术动态

    主办单位:  华中科技大学

    出版周期:  双月

    出版地:湖北省武汉市

    语种:  中文

    开本:  大16开

    创刊时间:  1983

    椭圆偏振光谱学

    【期数】:2001年06期

    【作者】:

    【摘要】: 椭圆偏振光谱学简称椭偏术或椭圆法。其原理是利用椭偏光在固体表面膜上反射和折射时引起光偏振状态的改变以研究表面膜厚度、光学常数、膜性质、结构以及基体光学性质和结构等。其主要优点是可灵敏检测出表面薄膜厚度约0.1 nm变化的有关信息;检测时不干扰和破坏试样表面,而现场跟踪表面变化过程获取不同的参量变化信息。与现有谱学方法相比,它特适于半导体材料制备、加工过程的监测、工艺条件的控制、性能和结构变化的现场研究等。随着计算机制造业的迅猛发展,超大型集成电路对芯片不断提高质量和扩大用途的要求,促进了椭圆仪制造业和SE方法的发展。据估计,90年代以来,美国的椭圆仪生产厂家