新技术使晶体材料走向商业化

【期数】：2001年02期

【作者】：房昌水

【摘要】： 美国第12届晶体生长及外延会议于2000年8月13～18日在美国卡罗拉多州Vail市召开,与会者有美、英、法、德、中、日、印等20余国科技人员。会议内容丰富,包括块状大晶体生长技术及理论、半导体晶体及薄膜材料的研究、氧化物晶体材料及薄膜、探测器材料、非线性及光折变、激光晶体材料、SiC晶体及外延、Ⅲ-Ⅴ族化合物晶体生长等。会议期间还有众