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  • 刊名: 国际学术动态

    主办单位:  华中科技大学

    出版周期:  双月

    出版地:湖北省武汉市

    语种:  中文

    开本:  大16开

    创刊时间:  1983

    晶体生长与外延会议概述

    【期数】:2001年02期

    【作者】:王弘

    【摘要】: 第12届美国晶体生长与外延会议于2000年8月13~18日在美国Vail市召开,参加会议的有来自中国、日本、印度、美、英、法、德等20多个国家的300多位科学家。会议内容包括铁电薄膜,SiC块晶和外延生长,氧化物衬底和薄膜,探测器材料,NASA微重力晶体生长,晶体生长基础研究,工业结晶,金属有机气相外延,光伏材料、半导体晶体生长,非线性光