值得注意的微细加工技术

【期数】：1996年05期

【作者】：徐端颐

【摘要】： 1995年微细加工技术年会于2月19—24日在美国电子工业研究中心——硅谷的Sar-ta Crala举行。会议讨论的热点是0.2～0.3微米范围的远亚微米技术,为规模生产256兆以上的DRAM创造条件。电子束、X光束、超紫外、离子束亚微米加工技术分会讨论了电子束在硅片上直接光刻工艺,提高光刻精度的方法,相移掩膜制造工艺,软X射线曝光设备,掩膜制造工艺,关键元,部件制造工艺技术,以及离子束直接光刻和无掩膜工艺等技术。