刊名: 国际学术动态
主办单位: 华中科技大学
出版周期: 双月
出版地:湖北省武汉市
语种: 中文
开本: 大16开
创刊时间: 1983
【期数】:2000年03期
【作者】:洪先龙
【摘要】: 第33届国际设计自动化学术会议1999年6月21日至25日在美国New Orleans举行。这是电子CAD方面规模最大、水平最高的学术会议,会议期间同时举办IC CAD产品展览会。会议分4大组进行学术报告,主要内容涉及电路模拟、器件模拟、时序分析和验证,故障模拟、测试生成、测试有效性、可测试性和设计验证,布图规划、布局、布线、划分和布图系统,