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  • 刊名: 国际学术动态

    主办单位:  华中科技大学

    出版周期:  双月

    出版地:湖北省武汉市

    语种:  中文

    开本:  大16开

    创刊时间:  1983

    VLSI布图技术十大问题

    【期数】:2000年03期

    【作者】:洪先龙

    【摘要】: 第33届国际设计自动化学术会议1999年6月21日至25日在美国New Orleans举行。这是电子CAD方面规模最大、水平最高的学术会议,会议期间同时举办IC CAD产品展览会。会议分4大组进行学术报告,主要内容涉及电路模拟、器件模拟、时序分析和验证,故障模拟、测试生成、测试有效性、可测试性和设计验证,布图规划、布局、布线、划分和布图系统,