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  • 刊名: 国际学术动态

    主办单位:  华中科技大学

    出版周期:  双月

    出版地:湖北省武汉市

    语种:  中文

    开本:  大16开

    创刊时间:  1983

    首届亚洲化学气相淀积会议简介

    【期数】:2000年01期

    【作者】:

    【摘要】: 1999年亚洲地区化学气相淀积国际学术会议(1999 Asian Conference on Chemical Va-por Deposition,简称1999亚洲CVD会议或Asian CVD 99)成功地于1999年5月10~13日在上海举办。来自全世界不同国家和地区的81位代表在良好的学术气氛中进行了交流,并且促进了国际合作,同时扩大了我国在国际学术界的影响。化学气相淀积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)是应用面很广泛的一种实用技