刊名: 国际学术动态
主办单位: 华中科技大学
出版周期: 双月
出版地:湖北省武汉市
语种: 中文
开本: 大16开
创刊时间: 1983
【期数】:2000年01期
【作者】:
【摘要】: 1999年亚洲地区化学气相淀积国际学术会议(1999 Asian Conference on Chemical Va-por Deposition,简称1999亚洲CVD会议或Asian CVD 99)成功地于1999年5月10~13日在上海举办。来自全世界不同国家和地区的81位代表在良好的学术气氛中进行了交流,并且促进了国际合作,同时扩大了我国在国际学术界的影响。化学气相淀积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)是应用面很广泛的一种实用技