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  • 刊名: 国际学术动态

    主办单位:  华中科技大学

    出版周期:  双月

    出版地:湖北省武汉市

    语种:  中文

    开本:  大16开

    创刊时间:  1983

    半导体缺陷研究

    【期数】:2000年01期

    【作者】:杨德仁;李东升

    【摘要】: 第20届"半导体缺陷"国际学术会议(ICDS-20,International Conference on Defects inSemiconductors)于1999年7月26~30日在美国伯克利市举行,共有300名代表参加。会议主席是著名学者E.E.Haller教授,会议程序委员会主席由N.Johnson教授担任,会议成立了由K.Sumino,W.Jantsch等5人组成的国际指导委员会和15人左右的国际顾问委员会。本次会议录取论文324篇,其中口头报告104篇。我国浙江大学硅材料国家重点实验室两篇