自旋电子学新动向

【期数】：1999年06期

【作者】：翟宏如

【摘要】： 在加拿大温哥华不列颠哥伦比亚大学召开的第3届金属多层膜国际讨论会(MML),有各国学者304人与会。会议交流论文443篇,其中口头报告103篇,墙展340篇。我国有4人参加会议,南京大学翟宏如,复旦大学金晓峰,兰州大学葛世慧和香港科技大学唐子康,其中翟宏如为该会议国际委员会委员。我国学者交流论文11篇,其中口头报告2篇,但没有特邀报告,且参会人数和论文数相对较少,首要原因是科研人员经费不足。其次,我国在此领域的研究起步较迟,十分先进的工作不多。