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  • 刊名: 国际学术动态

    主办单位:  华中科技大学

    出版周期:  双月

    出版地:湖北省武汉市

    语种:  中文

    开本:  大16开

    创刊时间:  1983

    光刻工艺:微电子技术的关键

    【期数】:1999年05期

    【作者】:

    【摘要】: 微电子技术是衡量一个国家电子工业水平的标志之一,它的发展极大地影响着科学技术的各个领域。现在,这一技术的发展已进入超大规模集成电路研制的阶段,要求在每个芯片上集成10亿个元件,图形线条宽度在0.35μm以下。集成电路主要依靠精细加工技术,而