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  • 刊名: 国际学术动态

    主办单位:  华中科技大学

    出版周期:  双月

    出版地:湖北省武汉市

    语种:  中文

    开本:  大16开

    创刊时间:  1983

    有机/无机光子学材料研究与应用

    【期数】:1999年04期

    【作者】:刘丽英

    【摘要】: 第43届美国光学工程学会年会于1998年7月19日至24日在美国加里弗尼亚州美丽的海滨城市圣地亚哥举办,与会各国学者有3000多人,再加上参加短训班的学生和参加光学仪器展览的厂家260个,使与会者多达5500多人。会议共收到论文2300多篇,其中有2100篇左右的口头报告,另外还有200多篇张贴文章。