193nm光刻胶研究现状

【期数】：1999年02期

【作者】：洪啸吟

【摘要】： 第23届SPIE微细光刻学术会议于1998年2月22日至27日在美国加利福尼亚州Sa-ta clara市召开。与会者有1500余人,发表论文约500篇。分会场有:①新的微细刻蚀技术,②光刻技术的计量、检验和程序控制,③抗蚀剂进展,④光学光刻技术。笔者以"无显影气相光刻在蚀剂氮化硅上的应用"一文参加了"新的微细刻蚀技术"的分会。